ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက် (HCl)

နည်းပညာဆိုင်ရာ ကန့်သတ်ချက်များ-

ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်တွင် ဓာတုဖော်မြူလာ HCl ပါရှိသည်။ ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်မော်လီကျူးသည် ကလိုရင်းအက်တမ်နှင့် ဟိုက်ဒရိုဂျင်အက်တမ်တို့ဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသည်။ ၎င်းသည် ညှော်နံ့ရှိသော အရောင်မဲ့ဓာတ်ငွေ့ဖြစ်သည်။ အဆိပ်သင့်ပြီး လောင်ကျွမ်းနိုင်သော ဓာတ်ငွေ့သည် ရေနှင့် မတုံ့ပြန်သော်လည်း ရေတွင် အလွယ်တကူ ပျော်ဝင်နိုင်သည်။ ၎င်းကို ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်အငွေ့ပုံစံဖြင့် လေထုထဲတွင် မကြာခဏတွေ့ရသည်။ ဟိုက်ဒရိုဂျင် ကလိုရိုက်သည် အီသနောနှင့် အီသာတို့တွင် အလွယ်တကူ ပျော်ဝင်နိုင်ပြီး အခြားသော အော်ဂဲနစ်ပစ္စည်းများတွင်လည်း ပျော်ဝင်နိုင်သည်။ ရေတွင် အလွန်လွယ်ကူစွာ ပျော်ဝင်နိုင်ပြီး 0°C တွင်၊ ရေ 1 ထုထည်သည် ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက် 500 ပမာဏခန့်ကို ပျော်ဝင်နိုင်သည်။ ၎င်း၏ ရေပျော်ရည်ကို ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်ဟု အများအားဖြင့် သိကြပြီး ၎င်း၏ သိပ္ပံအမည်မှာ ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ် ဖြစ်သည်။ စုစည်းထားသော ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်သည် မငြိမ်မသက်ဖြစ်နေသည်။ ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်သည် အရောင်မဲ့ဖြစ်ပြီး အရည်ပျော်မှတ် -114.2°C နှင့် ဆူမှတ် -85°C ရှိသည်။ ၎င်းသည် လေထဲတွင် မလောင်ကျွမ်းဘဲ အပူအအေး တည်ငြိမ်သည်။ 1500°C လောက်အထိ မပြိုကွဲပါဘူး။ အသက်ရှူလမ်းကြောင်းအပေါ်ပိုင်းကို ပြင်းပြင်းထန်ထန် ယားယံစေကာ မျက်လုံး၊ အရေပြားနှင့် အကျိအချွဲအမြှေးပါးများကို အဆိပ်သင့်စေသော အနံ့ပါရှိသည်။ သိပ်သည်းဆက လေထက် ကြီးတယ်။ ခြောက်သွေ့သော ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်၏ ဓာတုဂုဏ်သတ္တိများသည် အလွန်တက်ကြွမှုမရှိပါ။ အယ်လ်ကာလီသတ္တုများနှင့် အယ်လ်ကာလီမြေသတ္ထုများသည် ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်တွင် လောင်ကျွမ်းနိုင်ပြီး ဆိုဒီယမ်လောင်ကျွမ်းသောအခါတွင် တောက်ပသောအဝါရောင်မီးတောက်ကို ထုတ်လွှတ်သည်။ ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်ကို ရေနံဓာတုဗေဒလုပ်ငန်းတွင် အသုံးပြုပြီး ဓာတ်ကူပစ္စည်းများ၏ ထိရောက်မှုနှင့် ပြန်လည်ဖြစ်ပေါ်မှုကို မြှင့်တင်ရန်နှင့် ရေနံ၏ ပျစ်ဆိမ့်မှုကို တိုးမြှင့်ရန်၊ chlorosulfonic အက်ဆစ်၊ ဓာတုရာဘာ စသည်တို့ကို ထုတ်လုပ်ရန် အသုံးပြုနိုင်သည်။ ဆိုးဆေးများ၊ အမွှေးနံ့သာများ၊ ဆေးဝါးပေါင်းစပ်မှု၊ အမျိုးမျိုးသော ကလိုရိုက်များနှင့် သံချေးတက်ခြင်းကို တားဆီးပေးခြင်း၊ သန့်ရှင်းခြင်း၊ နှပ်ခြင်း၊ လျှပ်စစ်သုတ်ခြင်း၊ သတ္တုအရောင်တင်ခြင်း၊ သန့်စင်ခြင်း သို့မဟုတ် မာကျောသောသတ္တုထုတ်လုပ်ခြင်းတို့အတွက်လည်း အသုံးပြုနိုင်သည်။ သန့်စင်မှုမြင့်မားသော ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်ဓာတ်ငွေ့ကို အီလက်ထရွန်နစ်စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် ဆီလီကွန် epitaxial ကြီးထွားမှု၊ အခိုးအငွေ့အဆင့် ပွတ်တိုက်ခြင်း၊ ထုတ်ယူခြင်း၊ ထွင်းထုခြင်းနှင့် သန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည်။

လျှောက်လွှာ

① ပစ္စည်း-

ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက် အများစုကို ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ် ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုသည်။ ၎င်းသည် အခြားစက်မှုလုပ်ငန်းဆိုင်ရာ ဓာတုအသွင်ပြောင်းရာတွင် အရေးပါသော ဓာတ်ပစ္စည်းများလည်းဖြစ်သည်။

② Semiconductor-

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင်၊ ၎င်းကို etch semiconductor crystals နှစ်ခုစလုံးတွင် အသုံးပြုပြီး trichlorosilane (SiHCl3) မှတစ်ဆင့် ဆီလီကွန်သန့်စင်ရန်အတွက် အသုံးပြုသည်။

③ဓာတ်ခွဲခန်း-

ဓာတ်ခွဲခန်းတွင်၊ ၎င်းတို့၏ လူးဝစ်ဆိုဒ်များ လုပ်ဆောင်ရန်အတွက် လုံးဝခြောက်သွေ့နေရမည့် ကလိုရိုက်အခြေခံ လူးဝစ် အက်ဆစ်များကို ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အထူးသဖြင့် ဓာတ်ငွေ့၏ မဟိုက်ဒရိတ်ပုံစံများသည် အသုံးဝင်သည်။

ပုံမှန်အထုပ်-

အားသာချက်များ

①မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှု၊ နောက်ဆုံးပေါ်ပစ္စည်းများ။

②ISO လက်မှတ်ထုတ်လုပ်သူ;

③လျင်မြန်စွာပေးပို့ခြင်း။

④ အဆင့်တိုင်းတွင် အရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှုအတွက် အွန်လိုင်းခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာမှုစနစ်၊

⑤မဖြည့်မီ ဆလင်ဒါကို ကိုင်တွယ်ရန်အတွက် မြင့်မားသော လိုအပ်ချက်နှင့် စေ့စပ်သေချာသည့် လုပ်ငန်းစဉ်၊