ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက် (HCl)

နည်းပညာဆိုင်ရာ ကန့်သတ်ချက်များ:

ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်တွင် HCl ဓာတုဗေဒဖော်မြူလာရှိသည်။ ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်မော်လီကျူးတစ်ခုသည် ကလိုရင်းအက်တမ်တစ်ခုနှင့် ဟိုက်ဒရိုဂျင်အက်တမ်တစ်ခုတို့ဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသည်။ ၎င်းသည် စူးရှသောအနံ့ရှိသော အရောင်မရှိသောဓာတ်ငွေ့တစ်ခုဖြစ်သည်။ ချေးတက်တတ်သော၊ မီးမလောင်နိုင်သောဓာတ်ငွေ့သည် ရေနှင့်ဓာတ်ပြုခြင်းမရှိသော်လည်း ရေတွင်အလွယ်တကူပျော်ဝင်နိုင်သည်။ ၎င်းသည် လေထဲတွင် ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်အငွေ့ပုံစံဖြင့် မကြာခဏရှိနေတတ်သည်။ ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်သည် အီသနောနှင့် အီသာတွင် အလွယ်တကူပျော်ဝင်ပြီး အခြားအော်ဂဲနစ်ပစ္စည်းများစွာတွင်လည်း ပျော်ဝင်သည်။ ရေတွင် အလွန်လွယ်ကူစွာပျော်ဝင်သည်၊ ၀°C တွင် ရေတစ်ထုထည်သည် ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက် ၅၀၀ ခန့်ကို ပျော်ဝင်စေနိုင်သည်။ ၎င်း၏ရေပျော်ရည်ကို ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်ဟု လူသိများပြီး ၎င်း၏သိပ္ပံအမည်မှာ ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်ဖြစ်သည်။ ပြင်းအားမြင့် ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်သည် ပျံ့လွင့်လွယ်သည်။ ဟိုက်ဒရိုကလိုရိုက်သည် အရောင်မရှိ၊ -၁၁၄.၂°C အရည်ပျော်မှတ်နှင့် -၈၅°C ဆူမှတ်ရှိသည်။ ၎င်းသည် လေထဲတွင် မလောင်ကျွမ်းဘဲ အပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ ၁၅၀၀°C ခန့်အထိ မပြိုကွဲပါ။ ၎င်းတွင် အသက်ရှူကြပ်စေသော အနံ့ရှိပြီး အပေါ်ပိုင်း အသက်ရှူလမ်းကြောင်းကို ပြင်းထန်စွာ ယားယံစေပြီး မျက်လုံး၊ အရေပြားနှင့် အမြှေးပါးများကို ချေးစေပါသည်။ သိပ်သည်းဆသည် လေထက် ပိုများပါသည်။ ခြောက်သွေ့သော ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်၏ ဓာတုဂုဏ်သတ္တိများသည် အလွန်မလှုပ်ရှားပါ။ အယ်ကာလီသတ္တုများနှင့် အယ်ကာလီမြေသတ္တုများသည် ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်တွင် လောင်ကျွမ်းနိုင်ပြီး ဆိုဒီယမ်လောင်ကျွမ်းသောအခါ တောက်ပသော အဝါရောင်မီးလျှံကို ထုတ်လွှတ်သည်။ ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်ကို ရေနံဓာတုဗေဒလုပ်ငန်းတွင် ဓာတ်ကူပစ္စည်းများ၏ ထိရောက်မှုနှင့် ပြန်လည်ရှင်သန်မှုကို မြှင့်တင်ရန်နှင့် ရေနံ၏ viscosity ကို မြှင့်တင်ရန်အတွက် အသုံးပြုသည်။ ၎င်းကို ကလိုရိုဆာလ်ဖိုနစ်အက်ဆစ်၊ ဓာတုရော်ဘာစသည်တို့ ထုတ်လုပ်ရန် အသုံးပြုနိုင်သည်။ ၎င်းကို ဆိုးဆေးများ၊ အမွှေးနံ့များ၊ ဆေးဝါးပေါင်းစပ်မှု၊ ကလိုရိုက်အမျိုးမျိုးနှင့် ချေးတားဆီးပစ္စည်းများ ပြုလုပ်ရန်နှင့် သန့်ရှင်းရေး၊ သတ္တုအချဉ်ဖောက်ခြင်း၊ လျှပ်စစ်ဓာတ်ဖြင့် ಲೇಪခြင်း၊ အသားညိုခြင်း၊ သန့်စင်ခြင်း သို့မဟုတ် မာကျောသောသတ္တုထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက်လည်း အသုံးပြုနိုင်သည်။ မြင့်မားသောသန့်စင်မှု ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်ဓာတ်ငွေ့ကို အီလက်ထရွန်းနစ်လုပ်ငန်းတွင် ဆီလီကွန် epitaxial ကြီးထွားမှု၊ အငွေ့အဆင့် ಲೇಪခြင်း၊ ထုတ်ယူခြင်း၊ ထွင်းထုခြင်းနှင့် သန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြုသည်။

လျှောက်လွှာ:

①ပစ္စည်း:

ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက် အများစုကို ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ် ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုသည်။ ၎င်းသည် အခြားစက်မှုလုပ်ငန်းဆိုင်ရာ ဓာတုဗေဒ အသွင်ပြောင်းမှုများတွင်လည်း အရေးကြီးသော ဓာတ်ကူပစ္စည်းတစ်ခု ဖြစ်သည်။

② တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းလုပ်ငန်းတွင် ၎င်းကို တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းပုံဆောင်ခဲများကို ထွင်းထုရန်နှင့် trichlorosilane (SiHCl3) မှတစ်ဆင့် ဆီလီကွန်ကို သန့်စင်ရန်အတွက် အသုံးပြုသည်။

၃။ ဓာတ်ခွဲခန်း

ဓာတ်ခွဲခန်းတွင်၊ ရေဓာတ်မပါဝင်သော ဓာတ်ငွေ့ပုံစံများသည် ကလိုရိုက်အခြေခံ Lewis အက်ဆစ်များ ထုတ်လုပ်ရာတွင် အထူးအသုံးဝင်ပြီး၊ ၎င်းတို့၏ Lewis နေရာများ လုပ်ဆောင်ရန်အတွက် လုံးဝခြောက်သွေ့နေရပါမည်။

ပုံမှန်ပက်ကေ့ဂျ်:

အားသာချက်များ:

① သန့်စင်မှုမြင့်မားခြင်း၊ နောက်ဆုံးပေါ် စက်ရုံ။

②ISO လက်မှတ်ထုတ်လုပ်သူ;

③ မြန်ဆန်သော ပို့ဆောင်မှု;

④အဆင့်တိုင်းတွင် အရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှုအတွက် အွန်လိုင်းခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာမှုစနစ်။

⑤ ဖြည့်သွင်းခြင်းမပြုမီ ဆလင်ဒါကို ကိုင်တွယ်ရန်အတွက် မြင့်မားသောလိုအပ်ချက်နှင့် စေ့စပ်သေချာသောလုပ်ငန်းစဉ်။