အီလက်ထရွန်းနစ် အထူးဓာတ်ငွေ့ အကြီးမားဆုံး ပမာဏ- နိုက်ထရိုဂျင် ထရီဖလိုရိုက် NF3

ကျွန်ုပ်တို့နိုင်ငံ၏ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းနှင့် ဘောင်စက်မှုလုပ်ငန်းသည် မြင့်မားသော ချမ်းသာကြွယ်ဝမှုကို ထိန်းသိမ်းထားသည်။ ပြားများနှင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာများ ထုတ်လုပ်မှုနှင့် စီမံဆောင်ရွက်ရာတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပြီး ထုထည်အကြီးဆုံး အထူးလျှပ်ကူးပစ္စည်းဖြစ်သော နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုဂျင်ထရိုဖလိုရိုက်သည် ကျယ်ပြန့်သောစျေးကွက်နေရာရှိသည်။

အသုံးများသော ဖလိုရင်းပါဝင်သော အထူးအီလက်ထရွန်နစ်ဓာတ်ငွေ့များ ပါဝင်သည်။ဆာလဖာ hexafluoride (SF6)တန်စတင် ဟက်ဇဖလိုရိုက် (WF6)၊ကာဗွန်တက်ထရာဖလိုရိုက် (CF4)၊ trifluoromethane (CHF3)၊ နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုဖလိုရိုက် (NF3)၊ hexafluoroethane (C2F6) နှင့် octafluoropropane (C3F8)။ နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုဖလိုရိုက် (NF3) ကို ဟိုက်ဒရိုဂျင် ဖလိုရိုက်-ဖလိုရိုက်ဓာတ်ငွေ့ စွမ်းအင်မြင့် ဓာတုလေဆာများအတွက် ဖလိုရင်းရင်းမြစ်အဖြစ် အဓိကအသုံးပြုသည်။ H2-O2 နှင့် F2 အကြား တုံ့ပြန်စွမ်းအင်၏ 25% ခန့်ကို လေဆာရောင်ခြည်ဖြင့် ထုတ်လွှတ်နိုင်သောကြောင့် HF-OF လေဆာများသည် ဓာတုလေဆာများကြားတွင် အလားအလာအကောင်းဆုံးလေဆာများဖြစ်သည်။

နိုက်ထရိုဂျင်ထရီဖလိုရိုက်သည် မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် အလွန်ကောင်းမွန်သော ပလာစမာထုတ်လွှတ်သည့်ဓာတ်ငွေ့တစ်ခုဖြစ်သည်။ ဆီလီကွန်နှင့် ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်ကို ထွင်းထုခြင်းအတွက်၊ နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုဖလိုရိုက်သည် ကာဗွန်တက်ထရာဖလိုရိုက်နှင့် ကာဗွန်တက်ထရာဖလိုရိုက်နှင့် အောက်ဆီဂျင်တို့ ရောနှောထားသော ထက်ပိုမိုမြင့်မားပြီး မျက်နှာပြင်ကို ညစ်ညမ်းစေခြင်းမရှိပါ။ အထူးသဖြင့် 1.5um ထက်နည်းသော အထူရှိသော circuit ပစ္စည်းများကို ထွင်းထုခြင်းတွင်၊ နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုဖလိုရိုက်သည် အလွန်ကောင်းမွန်သော etching rate နှင့် selectivity ရှိပြီး ထွင်းထားသော အရာဝတ္ထု၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အကြွင်းအကျန်မရှိသည့်အပြင် အလွန်ကောင်းမွန်သော သန့်စင်ဆေးလည်းဖြစ်သည်။ နာနိုနည်းပညာ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့် အီလက်ထရွန်းနစ်စက်မှုလုပ်ငန်း အကြီးစား ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့်အတူ ၎င်း၏ ဝယ်လိုအားသည် တနေ့ထက်တနေ့ တိုးလာပါသည်။

微信图片_20241226103111

ဖလိုရင်းပါရှိသော အထူးဓာတ်ငွေ့ အမျိုးအစားတစ်ခုအနေဖြင့် နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုဖလိုရိုက် (NF3) သည် စျေးကွက်တွင် အကြီးဆုံး အီလက်ထရွန်နစ် အထူးဓာတ်ငွေ့ ထုတ်ကုန်ဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် အခန်းအပူချိန်တွင် ဓာတုဗေဒအရ အားနည်းသည်၊ အောက်ဆီဂျင်ထက် ပိုမိုတက်ကြွသည်၊ ဖလိုရင်းထက် ပိုမိုတည်ငြိမ်ကာ မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် ကိုင်တွယ်ရလွယ်ကူသည်။

နိုက်ထရိုဂျင်ထရီဖလိုရိုက်ကို ပလာစမာ etching gas နှင့် reaction chamber cleaning agent အဖြစ် အဓိကအားဖြင့် အသုံးပြုသည်၊၊ semiconductor chips၊ flat panel displays၊ optical fibers၊ photovoltaic cells စသည်တို့ကဲ့သို့သော ကုန်ထုတ်လုပ်မှုနယ်ပယ်များအတွက် သင့်လျော်ပါသည်။

အခြားသော ဖလိုရင်းပါရှိသော အီလက်ထရွန်နစ်ဓာတ်ငွေ့များနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုဖလိုရိုက်သည် လျင်မြန်သောတုံ့ပြန်မှုနှင့် ထိရောက်မှုမြင့်မားသော အားသာချက်များရှိပြီး အထူးသဖြင့် ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်ကဲ့သို့သော ဆီလီကွန်ပါရှိသောပစ္စည်းများကို ထွင်းထုရာတွင် ခြစ်ထုတ်နှုန်းနှင့် ရွေးချယ်နိုင်မှု မြင့်မားသောကြောင့် ထွင်းထုထားသော အရာဝတ္ထု၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အကြွင်းအကျန်မကျန်တော့ဘဲ သန့်စင်ရေးအေးဂျင့်တစ်ခုလည်းဖြစ်သည်။


စာတိုက်အချိန်- ဒီဇင်ဘာ-၂၆-၂၀၂၄