အများဆုံးအသုံးပြုသောအီလက်ထရောနစ်အထူးဓာတ်ငွေ့ - နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride

သာမန် fluorine-ictronic ဓာတ်ငွေ့များပါဝင်သည်ဆာလဖာ hexafluoride (sf6), Tungsten Hexafluoride (WF6),ကာဗွန် Tetrafluoride (CF4)Trifluoroomethane (CHF3), နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride (NF3), Hexafluoroethane (C2F6) နှင့် Octafluoroproprome (C3F8) ။

Nanotechnology နှင့် Electronics လုပ်ငန်း၏အကြီးစားဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့်အတူတစ်နေ့လျှင်၎င်း၏ဝယ်လိုအားသည်တစ်နေ့လျှင်တစ်ရက်လာလိမ့်မည်။ နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride သည် Pans နှင့် Semiconaductors ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့်ပြုပြင်ထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောအထူးအီလက်ထရောနစ်ဓာတ်ငွေ့တစ်မျိုးအနေဖြင့်စျေးကွက်နေရာကျယ်ပြန့်သောနေရာတွင်ရှိသည်။

ဖလိုရင်း - ပါ 0 င်သောအထူးဓာတ်ငွေ့အမျိုးအစားတစ်ခုအဖြစ်နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride (NF3)အကြီးဆုံးစျေးကွက်စွမ်းရည်နှင့်အတူအီလက်ထရောနစ်အထူးဓာတ်ငွေ့ထုတ်ကုန်ဖြစ်ပါတယ်။ ၎င်းသည်အခန်းအပူချိန်တွင်ဓာတုဗေဒအရ inert, မြင့်မားသောအပူချိန်မြင့်မားသောအောက်စီဂျင်ထက်အောက်စီဂျင်ထက်ပိုမိုတက်ကြွသည်, fluorine ထက် ပို. တည်ငြိမ်သည်။ နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride သည်အဓိကအားဖြင့် Plasma etching gas နှင့်တုံ့ပြန်မှုအခန်းများကိုသန့်ရှင်းရေးကိုယ်စားလှယ်အဖြစ်အသုံးပြုသည်။ Semiconductor Chips များ,

အခြား fluorine ပါဝင်သောအီလက်ထရောနစ်ဓာတ်ငွေ့များနှင့်နှိုင်းယှဉ်ပါက,နိုက်ထရိုဂျင် trifluorideလျင်မြန်စွာတုံ့ပြန်မှုနှင့်မြင့်မားသောထိရောက်မှု၏အားသာချက်များရှိပါတယ်။ အထူးသဖြင့်ဆီလီကွန် Nitride ကဲ့သို့သောဆီလီကွန်ပါဝင်သောပစ္စည်းများဖြစ်သောဆီလီကွန်ပါဝင်သောပစ္စည်းများပါ 0 င်သည့်အတွက်၎င်းတွင်အလွန်အမင်းစွဲမြဲစွာနှင့်ရွေးချယ်မှုတစ်ခုရှိပြီး selected object ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်ကျန်ရှိခြင်းမရှိပါ။ ၎င်းသည်အလွန်ကောင်းမွန်သောသန့်ရှင်းရေးကိုယ်စားလှယ်ဖြစ်ပြီးအပြောင်းအလဲနဲ့လုပ်ငန်းစဉ်၏လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းပေးနိုင်သည့်မျက်နှာပြင်တွင်ညစ်ညမ်းမှုမရှိပါ။