အသုံးအများဆုံး အီလက်ထရွန်နစ် အထူးဓာတ်ငွေ့ - နိုက်ထရိုဂျင် ထရိုဖလိုရိုက်

ဘုံဖလိုရင်းပါဝင်သော အထူးအီလက်ထရွန်နစ်ဓာတ်ငွေ့များ ပါဝင်သည်။ဆာလဖာ hexafluoride (SF6)တန်စတင် ဟက်ဇဖလိုရိုက် (WF6)၊ကာဗွန်တက်ထရာဖလိုရိုက် (CF4)၊ trifluoromethane (CHF3)၊ နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုဖလိုရိုက် (NF3)၊ hexafluoroethane (C2F6) နှင့် octafluoropropane (C3F8)။

နာနိုနည်းပညာ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့် အီလက်ထရွန်းနစ်စက်မှုလုပ်ငန်း အကြီးစား ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့်အတူ ၎င်း၏ ဝယ်လိုအားသည် တနေ့ထက်တနေ့ တိုးလာပါသည်။ ပြားများနှင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာများ ထုတ်လုပ်မှုနှင့် စီမံဆောင်ရွက်ရာတွင် မရှိမဖြစ် လိုအပ်ပြီး အကြီးဆုံးသော အထူးလျှပ်ကူးပစ္စည်း ဓာတ်ငွေ့အဖြစ် နိုက်ထရိုဂျင် ထရီဖလိုရိုက်သည် ကျယ်ပြန့်သော စျေးကွက်နေရာရှိသည်။

ဖလိုရင်းပါဝင်သော အထူးဓာတ်ငွေ့အမျိုးအစားအဖြစ်၊နိုက်ထရိုဂျင်ထရီဖလိုရိုက် (NF3)အီလက်ထရွန်နစ် အထူးဓာတ်ငွေ့ ထုတ်ကုန်သည် စျေးကွက်စွမ်းရည် အကြီးဆုံးဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် အခန်းအပူချိန်တွင် ဓာတုဗေဒအရ အားနည်းနေပြီး မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် အောက်ဆီဂျင်ထက် ပိုမိုတက်ကြွကာ ဖလိုရင်းထက် ပိုမိုတည်ငြိမ်ကာ ကိုင်တွယ်ရလွယ်ကူသည်။ နိုက်ထရိုဂျင်ထရိုင်ဖလိုရိုက်ကို ပလာစမာ etching ဓာတ်ငွေ့နှင့် တုံ့ပြန်မှုအခန်းသန့်ရှင်းရေး ကိုယ်စားလှယ်အဖြစ် အဓိကအသုံးပြုပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ချစ်ပ်ပြားများ၊ ပြားချပ်ချပ်ပြကွက်များ၊ optical fibers၊ photovoltaic ဆဲလ်များ စသည်တို့အတွက် သင့်လျော်သည်။

အခြားသော ဖလိုရင်းပါဝင်သော အီလက်ထရွန်နစ်ဓာတ်ငွေ့များနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက၊နိုက်ထရိုဂျင် trifluorideလျင်မြန်သောတုံ့ပြန်မှုနှင့်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားခြင်း၏အားသာချက်များရှိသည်။ အထူးသဖြင့် ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ် ကဲ့သို့သော ဆီလီကွန်ပါဝင်သော ပစ္စည်းများကို ထွင်းထုရာတွင် ခြစ်ထုတ်မှုနှုန်း မြင့်မားပြီး ရွေးချယ်နိုင်မှု ရှိပြီး ထွင်းထားသော အရာဝတ္ထု၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အကြွင်းအကျန် မကျန်တော့ပေ။ ၎င်းသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော သန့်စင်ဆေးတစ်မျိုးဖြစ်ပြီး မျက်နှာပြင်ကို ညစ်ညမ်းမှုမရှိစေဘဲ လုပ်ဆောင်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ လိုအပ်ချက်များကို ဖြည့်ဆည်းပေးနိုင်သည်။