အသုံးအများဆုံး အီလက်ထရွန်းနစ် အထူးဓာတ်ငွေ့ – နိုက်ထရိုဂျင် ထရိုင်ဖလိုရိုက်

အဖြစ်များသော ဖလိုရင်းပါဝင်သော အထူးအီလက်ထရွန်းနစ်ဓာတ်ငွေ့များတွင် ပါဝင်သည်-ဆာလ်ဖာ ဟက်ဆာဖလိုရိုက် (SF6)တန်စတင် ဟက်ဇဖလိုရိုက် (WF6)၊ကာဗွန် တက်ထရာဖလိုရိုက် (CF4), trifluoromethane (CHF3)၊ နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride (NF3)၊ hexafluoroethane (C2F6) နှင့် octafluoropropane (C3F8)။

နာနိုနည်းပညာ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့် အီလက်ထရွန်းနစ်လုပ်ငန်း ကြီးမားသော ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့်အတူ ၎င်း၏ চাহিদာသည် တစ်နေ့တခြား တိုးလာလိမ့်မည်။ ပြားများနှင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့် ပြုပြင်ခြင်းတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပြီး အကြီးမားဆုံး အသုံးပြုသည့် အထူးအီလက်ထရွန်းနစ်ဓာတ်ငွေ့အနေဖြင့် နိုက်ထရိုဂျင် ထရိုင်ဖလိုရိုက်သည် ကျယ်ပြန့်သော ဈေးကွက်နယ်ပယ်တစ်ခုရှိသည်။

ဖလိုရင်းပါဝင်သော အထူးဓာတ်ငွေ့အမျိုးအစားတစ်ခုအနေဖြင့်၊နိုက်ထရိုဂျင် ထရိုင်ဖလိုရိုက် (NF3)စျေးကွက်တွင် အကြီးမားဆုံးစွမ်းရည်ရှိသော အီလက်ထရွန်းနစ် အထူးဓာတ်ငွေ့ထုတ်ကုန်ဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် အခန်းအပူချိန်တွင် ဓာတုဗေဒအရ အစွမ်းမဲ့ပြီး အပူချိန်မြင့်သောအခါ အောက်ဆီဂျင်ထက် ပိုမိုတက်ကြွကာ ဖလိုရင်းထက် ပိုမိုတည်ငြိမ်ပြီး ကိုင်တွယ်ရလွယ်ကူသည်။ နိုက်ထရိုဂျင် ထရိုင်ဖလိုရိုက်ကို အဓိကအားဖြင့် ပလာစမာထွင်းထုဓာတ်ငွေ့နှင့် ဓာတ်ပြုခန်းသန့်ရှင်းရေးအေးဂျင့်အဖြစ် အသုံးပြုပြီး တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းချစ်ပ်များ၊ flat panel display များ၊ optical fiber များ၊ photovoltaic ဆဲလ်များ စသည်တို့ ထုတ်လုပ်သည့်နယ်ပယ်များအတွက် သင့်လျော်သည်။

အခြားဖလိုရင်းပါဝင်သော အီလက်ထရွန်းနစ်ဓာတ်ငွေ့များနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက၊နိုက်ထရိုဂျင် ထရိုင်ဖလိုရိုက်တုံ့ပြန်မှုမြန်ဆန်ခြင်းနှင့် ထိရောက်မှုမြင့်မားခြင်း၏ အားသာချက်များရှိသည်။ အထူးသဖြင့် ဆီလီကွန်နိုက်ထရိုက်ကဲ့သို့သော ဆီလီကွန်ပါဝင်သောပစ္စည်းများကို ထွင်းထုခြင်းတွင်၊ ၎င်းသည် ထွင်းထုနှုန်းနှင့် ရွေးချယ်မှုမြင့်မားသောကြောင့် ထွင်းထုထားသောအရာဝတ္ထု၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အကြွင်းအကျန်မကျန်ရှိပါ။ ၎င်းသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော သန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းတစ်ခုလည်းဖြစ်ပြီး မျက်နှာပြင်ကို ညစ်ညမ်းစေခြင်းမရှိသောကြောင့် လုပ်ငန်းစဉ်၏ လိုအပ်ချက်များကို ဖြည့်ဆည်းပေးနိုင်ပါသည်။